第40章 技术助力,初见成效(2 / 4)

Blant118 / 著

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死马当活马医吧。

“让他进来。”楚冰缓缓说道。

“楚总!”陈建国急了。

“陈叔,我们已经没有退路了。”楚冰的声音很轻,却带着一种破釜沉舟的决绝。

很快,苏宇走了进来。

他穿着一身深灰色的休闲西装,身姿挺拔,精神奕奕。和楚冰的憔悴形成了鲜明的对比。

当他看到楚冰的样子时,心中微微一疼。那个在商业峰会上冷艳高贵、气场全开的“芯片女神”,此刻竟然如此疲惫不堪,像一朵即将凋零的雪莲。

“楚总,深夜打扰,实在抱歉。”苏宇的声音温和,带着恰到好处的歉意。

“苏总客气了。”楚冰勉强挤出一丝笑容,“不知道苏总深夜来访,有何贵干?”

“我听说贵公司的‘冰芯二号’遇到了技术瓶颈。”苏宇开门见山,目光真诚地看着楚冰,“正好我对量子材料和光刻技术略有研究,也许能帮上一点忙。”

陈建国在一旁冷笑道:“苏总,不是我们不信你。只是芯片研发不是儿戏,我们团队三百多个博士,研究了三年都没解决的问题,你一个外人怎么可能解决?”

苏宇没有理会陈建国的嘲讽,只是看着楚冰,认真地说道:“楚总,我知道你现在肯定不相信我。这样吧,给我十分钟时间,我给你讲一下我的解决方案。如果听完之后,你觉得不可行,我立刻就走,绝不再打扰。”

楚冰看着苏宇的眼睛。

他的眼神清澈、坚定,没有丝毫的虚伪和欺骗。

不知为何,楚冰的心中竟然生出了一丝莫名的信任。

“好,我给你十分钟。”楚冰点了点头。

苏宇笑了笑,从随身的公文包里拿出一台笔记本电脑,连接到会议室的大屏幕上。

“首先,我们来分析一下问题的根源。”苏宇指着屏幕上的芯片结构图,语速不快,却条理清晰,“你们现在使用的是传统的化学放大型光刻胶,在5nm工艺下,光刻胶的厚度只有30nm。在曝光过程中,光子的散射效应会导致光刻胶边缘模糊,从而产生漏电现象。”

陈建国不屑地说道:“这我们当然知道!问题是怎么解决!寰球顶尖光刻机厂商艾斯摩尔都没有完美的解决方案!”

“艾斯摩尔没有,不代表我们没有。”苏宇淡淡地说道,“我的解决方案是,放弃传统的化学放大型光刻胶,改用我研发的‘量子点光刻胶’。”

他一边说,一边在屏幕上画出了一个复杂的分子结构图。

“这种量子点光刻胶,以单分散的硒化镉量子点为核心,表面修饰有光敏基团。在曝光时,量子点会产生局域表面等离子体共振效应,将光子能量集中在纳米级范围内,完全消除了散射效应。同时,量子点的尺寸均匀性可以控制在0.1nm以内,光刻精度可以达到1nm以下。”

苏宇的语速越来越快,从量子点的合成方法,到光刻工艺的参数优化,再到显影液的配方调整,每一个技术细节都讲得非常透彻。

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