全员换上无尘工作服，经过三道安检进入偌大的实验室。
见到一台庞然大物，市委书记、市长、副市长等市领导同时愣住，安若素也是睫毛一颤。
安若素平时很少来鹏城大学，只有周末过来找老公，并未见过光刻机成品，此时指着大型设备激动道：“老公…这…这就是你研发的光刻机吗？”
“对。”
苏云杉向市领导介绍：“各位领导，这就是由皇甫集团和鹏城大学联合研制的HighNAEUV光刻机，机身尺寸10米x5米x4米，整机重量约150吨，按照设计要求，可以量产1nm及以上制程芯片，实验室可试产0.5nm芯片。”
哗——
全场领导大惊！
看着光刻机怔怔出神。
皇甫君昨晚来过，见过总装整机，此时再见，依然觉得震撼，光刻机通体哑光银灰，轮廓方正厚重，如同集装箱稳稳地扎在环氧地坪上。
苏云杉走近介绍：“这台设备是国内首台数值孔径0.55的HighNA极紫外光刻机，相较于国外传统0.33NAEUV光刻机，可大幅提升分辨率，打印8nm密集线条，突破芯片制造密度记录，这也是它能够突破1nm制程壁垒的核心关键。”
皇甫君母女三人、市领导、校领导跟在他身后，近距离观摩，更能直观地感受到它的精密和磅礴。
苏云杉摸着冰凉的机身继续介绍——
“整机采用一体化真空密封舱体设计，外壳是特制航空级碳化硅材质，抗形变、耐高温、耐腐蚀，表面哑光涂层经过百级无尘抛光处理，不沾微尘、极致平整，杜绝任何细微光线散射干扰。”
“设备搭载自研13.5nm波长高能脉冲等离子光源，最大功率突破350W，光源稳定性和光斑均匀性，均达到国际领先标准，彻底解决了传统EUV光源功耗高、续航短、光斑偏差的缺陷。”
苏云杉抬手指着设备核心光学区域，继续细致讲解。
“核心反射镜组为七层超高精度镀膜镜片，经过原子级抛光工艺处理，面形精度误差控制在0.05λ以内，表面粗糙度不足0.1纳米，相当于单个原子直径级别，可实现极致精准的光线反射和聚焦。”
啥啥啥……
说得是个啥……
安若素和安无恙姐妹俩听得一头雾水，但不明觉厉。
市委书记和市长此前做过国产光刻机的调研和考察工作，大概能听懂，来之前也做过功课，听到苏云杉报出的一组组参数，除了震惊还是震惊。
苏云杉接着报出一组极具含金量的核心参数。
“设备套刻精度控制在1.2纳米以内，单次曝光分辨率可达8纳米，配合多重曝光工艺，量产端可稳定实现1nm制程芯片规模化投产。
实验室极限工艺下，可完成0.5nm制程芯片的试产、迭代和良率测试。
同时，整机晶圆吞吐量可达每小时120片，单台设备年产能能够支撑数十万片先进制程晶圆产出，完全满足车载智控芯片、高端手机、AI算力芯片的量产需求。”
哇——
市领导和校领导又是一惊！
“整台设备核心国产化率达到100%，从真空腔体、精密运动工件台、双工件台换片系统，到光源模组、光学镜头、精密校准控制系统，全部实现自主设计、自主制造，彻底摆脱海外核心零部件的技术垄断。”