张红旗看了一眼名片，收了。
十一月十五号，范德贝尔的办公桌上多了一份报告，助手整理的。
“际华集团在柏林举办电影推介会，我方供应链管理部彼得·扬森出席。”
范德贝尔看了一眼，翻过去了，没当回事。
他的精力全在EUV概念机上——十一月底，ASML要在费尔德霍芬做第二次量产测试，这才是大事。
电影推介会，跟他一毛钱关系没有。
十一月二十号，鹏城，钱院士的会议室。
三个博士围着一台486电脑，屏幕上密密麻麻全是数字。
钱院士站在白板前，手里捏着一截粉笔。
从柏林带回来的技术参数，通过傅奇的渠道辗转三次到了钱院士手里，一共十七页，全是ASML概念机的公开演示数据，加上扬森在晚宴上无意间透露的几个关键指标。
钱院士把这些数据输进自己算了两个月的计算模型。
跑了四个小时。
结果出来了。
屏幕上，一条红色曲线和一条蓝色曲线。
红色是ASML公布的EUV光源功率预测曲线，蓝色是钱院士根据物理模型反推的实际曲线。
两条曲线在2005年之后开始分叉。
越往后，差距越大。
钱院士盯着屏幕，手里的粉笔攥了很久。
“他们的散热方案有问题。”
三个博士凑过来看。
钱院士指着分叉点：“EUV光源功率从十瓦往上走，到五十瓦，再到两百瓦，锡滴靶材的等离子体温度会指数级上升。他们现在用的冷却方案，撑不住。”
一个博士问：“撑不住会怎样？”
“镜面镀膜层会热降解，反射率下降，光刻精度就废了。”
钱院士把粉笔放下，转过身，看着白板上那张画了两个月的光路图。
“他们量产不了。”