第611章 国产光刻机的研发进程,至少缩短了(3 / 4)

今月曾经照古河 / 著

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有人面露难色地担忧道。

林南皱起眉头,看向设备组的主任工程师问道:“蔡司镀膜机在恒温恒湿环境下,能不能把精度稳定控制在0.05到0.1纳米之间?”

设备组的主任工程师想了想,非常严谨地回答道:“连续沉积10层钼硅膜,厚度误差最小0.04纳米,最大0.09纳米,刚好能满足方案要求。

但问题是,每次换靶材、调整激光功率时,误差会出现0.12到0.15纳米的波动,80次沉积下来,累积误差可能会超标。”

林南思索片刻,给了一条解决思路:“那就加一道实时校准的流程,算法组先开发一套膜厚监测程序,跟镀膜机的传感器联动,每沉积10层,就自动暂停,用电子显微镜扫描膜厚。

根据实测数据调整下一轮的激光功率和沉积时间,把单次误差控制在0.05纳米以内。

另外,在镀膜机周围加一圈恒温罩,避免温度的负面影响。”

其他人闻言,顿时豁然明悟。

林南毕竟是沪城光学精密机械研究所的高级工程师,能力和技术兼而有之,又是胡锐晖极力推荐的人才,关键时刻能拿出行之有效的方案倒也正常。

事实上,在陈延森看来,像林南等人,智商、领悟力和创造力都不错,但苦于接触不到EUV光学的顶尖技术,这才像是鬼打墙似的,一直绕弯路。

若是能拥有同等的科研环境,林南未必开发不出一套收集镜系统,可很多事终究没有如果。

而陈延森能搞定这项技术,靠的也是远超常人百倍的精神力,以及能让他进入超频思维状态的【普朗克时钟】天赋。

不然以他原本的能力,或许也能突破这项技术,但要花费的时间,绝对不止半个月。

在拿到“多壳层掠入射椭圆收集镜系统”的技术方案后,星源科技光学部上下,立刻投入全部精力,以最快的速度反复打磨、全力复现,力求将这套系统成功应用到实际生产中。

算法组连夜加班,三天内就完成了膜厚监测程序的开发。

该程序可以实时采集镀膜机的激光功率、沉积时间数据,还能自动生成膜厚误差曲线,当误差超过0.05纳米时,将会触发暂停指令,进而对精度进行实时校准。

由于研发中心还有大量光电所的工程师,所以科学协会的大佬们,没过多久就得知了星源科技的技术突破。

“老胡,你帮我问问,星源科技还缺不缺人?”

沪城光学精密机械研究所的汪象朝,主动拨通了胡锐晖的电话,支支吾吾地说道。

“什么意思?你想辞职?开什么玩笑!”

胡锐晖反问道。

汪象朝可是沪城光学精密机械研究所的中流砥柱,主要的研究方向都在EUV光源领域,前后申请了170余项专利,妥妥的行业大牛。

“老胡啊,星源科技连自研的收集镜系统都弄出来了,你知道这意味着什么吗?再往下走,光源系统就能彻底打通,一旦完成双工件台的研发工作,第一台国产EUV光刻机就有了技术根基,你明白吗?”

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