不过最值得一提的是，工信部重新融资“龙心”，并秘密派遣科技人员，加入了该公司。
虽然这些隐秘的事件，知道的人不多。
但是，龙心公司在月末拿出的成绩，以及所做出的举动，直接引爆了舆论。
《重大喜讯！工信部联合龙心研发出精度达到10nm级别的EUA光刻机！》
《龙心EUA光刻机定型，将于下月量产！》
《缺芯之痛终于解决，又一项工业明珠被突破？》
《国产科技的“心脏病”问题终于解决！》
光刻机！
这是华国半导体技术的二十年之痛！
也是曾经被米国极力封锁，甚至是拿捏控制的技术。
如今，居然轻易就突破了？？？
由于曾经关于光刻机，有太多的假消息了，消息爆出来的时候，人们下意识的居然是不相信！
因为直到几个月前，有权威人士分析。
华国要突破光刻机技术，至少要等两年！
而且这两年，突破的还只是28nm制程的EUA光刻机。
如今骇人三连跳，10nm制程的光刻机突然就突破了，这怎么可能？！
只怕又是个噱头！！！
但是，随着一张照片被放出来，人们才恍然发现，这居然是真的！
照片是在工信部，一台集装箱大小的光刻机前，几大通讯公司，几大芯片公司的大佬们，全都满脸笑容的站在一起，对着光刻机指指点点。
这可是国内半导体行业的半个江山啊！
现在全部聚集在了一起，那只能说明——
这消息是真的！！！
光刻机技术，真的突破了！
“我靠，最近真是好消息频频啊！”
“自从我们从月背回来之后，各种技术突破真是层出不穷啊！‘深思’”