波长：13.5纳米。
曝光均匀性：99.2%。
报告厅安静了三秒。
然后掌声炸了。
范德贝尔站在台上，等掌声停了。
“62瓦。各位，我们原定的目标是50瓦，今天的实测数据超出了百分之二十四。”
台下记者开始举手。
范德贝尔摆了摆手。
“问题等会儿再说，先看完。”
屏幕上切出第二组数据。
分辨率测试：45纳米线宽，清晰，没有畸变。
第三组，套刻精度：3.2纳米。
范德贝尔指着屏幕。
“这意味着，EUV光刻技术从实验室走向了工程验证阶段。我们距离量产只差最后一步。”
掌声又起来了。
发布会结束，记者围上去。
范德贝尔回答了十二个问题。最后一个，金融时报的记者问。
“首批量产设备的客户名单，能透露吗？”
范德贝尔笑了一下。
“首批设备将优先供应我们的长期合作伙伴——台积电，三星，英特尔。至于亚洲其他地区的客户，目前没有计划。”
这句话当天晚上就上了所有科技媒体的头条。
彭博的标题。
“ASML宣布EUV光刻机突破关键里程碑：亚洲客户被排除在首批名单外”
京城，后海。
下午三点。
张红旗坐在地下室。
面前一台电脑，屏幕上放的是ASML发布会的网络直播回放。
他从头看到尾，看了两遍。