第217章 文件生效,徐铭的大胆设想(4 / 5)

千越南秋 / 著

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刚要询问情况,视野中刚好出现一道熟悉身影,正是早就进入箐华高等研究院的李由。

不等他开口,对方就已经近前解释起来。

「老师和王教授一大早就去科学院开会了,应该是关于昨天晚上的大新闻。」

「出什么事了?」徐铭感到有些诧异。

他平时并没有随时上网的习惯,加上早上直接来了箐华高等研究院这边,因此对李由口中的大新闻不清楚。

李由闻言并未立刻解释,而是在旁边的电脑上,打开相关报导让徐铭查看。

见此徐铭也没耽搁,直接坐下浏览起来。

待将海外发布的文件核心内容,以及各方面的回应评论看完之后,他心底里的情绪虽不怎么平静,却也不至于产生很大波动。

毕竟这一天迟早会来。

「动作真快啊!」

深吸一口气轻声低喃一句,大脑却是在飞速运转。

其实早在燕京奥运会的那一年,国内便已经开始系统性布局高端半导体设备O

发布的中长期科学和技术发展规划纲要,确定的十几个重大科技专项中,极大规模集成电路制造技术及成套工艺排在首位,正式把晶片制造技术提升到战略级,提供持续和巨额的经费支持。

布局采用产学研用」结合的模式,系统性发展整个晶片制造产业链。

光刻机为最关键,最难攻克的环节。

截至目前,魔都微电子装备集团公司,作为国产光刻机研发的绝对主力军,能稳定交付的先进光刻机,为90纳米工艺水平。

相比海外最先进的,14纳米以及10纳米浸没式光刻机要落后很多。

因此海外这份文件的签署,确实会带来很大影响。

难怪连王者坤和唐亚愚教授他们,都被紧急喊到科学院总部参加会议。

而就当他想到这些时,脑海中却又浮现出,针对拓扑光子—等离激元耦合态理论的新想法。

且越来越强烈。

「以等离激元耦合态的性质,如果能将输入雷射的波长通过精确调控在某个近红外波段,或许产生的二次辐射的波长,能够在13.5nm的极紫外窗口附近。」

这是他前几天推导公式时,猛然意识到的一项设想。

如果能够实现的话,便相当于找到了,全新方式的极紫外光源。

本来今天正是想你两位教授,讨论极紫外光源的可行性及应用方向,在得知目前高产光刻机的研发,要尽快加速早日提上日程之后,顿时便想到将其作为光刻机光源。

随著疲个念头在脑海中挥之不去,他再也亨不住。

迫切想进行讨论研究。

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