实时动态补偿？
梁孟松当然知道这个解决方案。
类似的方案在半导体领域就有应用。
“我们已经安装了大量的传感器，但它们只是在记录温度和振动。
我要你重新编写算法，让它们成为预测和修正的神经系统。
将光刻机的关键参数与环境传感器数据直接挂钩。
基于过去数千小时的良率数据，建立一个预测模型，在环境变化尚未对光刻胶产生影响之前，模型就提前预测出焦点将要发生的漂移量。
最后利用CG-1内部自带的高速微致动器，在微秒级别内，动态微调透镜组的位置，以抵消环境变化带来的光学失真。
这就像一个外科医生在抖动的手术台上，依靠神经反射保持手部稳定。
这样一来，光刻机就不再追求静止的完美，而是追求动态中的完美。
环境越不稳定，我们的补偿系统就越有价值。”
林燃停顿片刻后说道：
“这套动态系统一旦成熟，不仅能够激活4nm的潜力，解决你现在所面临的问题，而且能够把我们7nm产线的良率再往上推一大截，和台积电7nm制程的良率达到一致。”
梁孟松听完，他立刻明白了林燃的意图：不是去战胜自然法则，而是去适应它，并利用数据和算法来驾驭它。
“动态补偿……”梁孟松喃喃自语，眼中精光闪烁，“用软件和算法去弥补硬件上的不足。用我们最擅长的信息技术去解决他们引以为傲的精密光学问题。”
他脸上兴奋的表情只出现了很短暂的时间。
很快表情就转变成工匠的严谨和质疑。
浸淫半导体行业数十年，梁孟松当然知道“实时动态补偿”的概念，但他更清楚，将这项技术应用于CG-1这类光刻机上的难度，简直是几何级数的提升。
“林总，动态补偿从理论上而言当然可行，但我们都很清楚，您也亲自参与过我们生产线的构建，您很清楚理论上可行和实际工程上落地之间的差距。
很多时候他们之间很可能横亘着马里亚纳海沟。”梁孟松的语气变得急切，他必须让林燃明白其中的巨大工程鸿沟。
“在实际的工业中，动态补偿在半导体领域也有应用，但那些场景的时间常数和运动幅度，与光刻机核心曝光的场景完全不同。”
“最常见的应用之一是CMP，也就是我们俗称的化学机械平坦化。
在CMP设备中，我们使用实时监测来调整研磨力的压力分布，以补偿晶圆在研磨过程中厚度的不均匀性。
这个过程是低速的，调整频率可能在秒级甚至分钟级。
设备有足够的时间去采集数据、计算修正量，然后执行。
另一个我能立刻想到的应用场景是等离子刻蚀。
我们会在刻蚀腔内用光谱仪实时监测等离子体的状态，然后微调气体流量或射频功率，以补偿刻蚀速率的漂移。
这个反馈频率可能达到毫秒级，但它修正的是化学环境，不是直接修正光学焦距。”