这种形变极其微小，在第一层、第二层，你几乎无法察觉。
但是，当叠加到第30层、第40层呢？
这种微小的误差会像滚雪球一样被放大，最终导致高层级的电路对准出现灾难性的偏差。
这就好比用一套有微小误差的模具去盖一栋百层高楼。
盖到第十层，看起来还很完美；盖到第五十层，问题开始显现；等到封顶的时候，整栋楼可能已经扭曲倾斜，摇摇欲坠。
佳能给我们看的，永远是前十层的完美景象，但他们不会，也不敢给我们看封顶之后的样子。
因为在德州，没有任何一家顶级逻辑芯片公司，敢于将NIL技术用于超过20层的关键制程。
佳能之所以愿意出售这套方案，恐怕.”
陈磊提出的这三大陷阱，缺陷瀑布、材料学黑箱和累积误差，它们环环相扣，从工艺、成本，到战略安全，再到最终产品的可靠性，构建了一个看似完美的技术方案背后存在的缺陷。
同时也让在座各位感慨，对方不愧是唯一了解NIL技术的专家，说的直击重点。
林燃摆了摆手：“陈博士，我知道了，这些都是小问题。
你放心，你需要的就只是去那，把他们的东西学会，然后带回来。”
陈磊轻声道：我之所以能回来，是因为在阿美莉卡的那个圈子里，我，以及和我一样的华人科学家，永远是外人。”
他顿了顿，似乎在组织语言，将那些压抑在心底许久的话，用最平静的方式说出来。
“我为什么会回国？不是因为国内给了我无法拒绝的待遇，而是因为在阿美莉卡，我这样的科学家已经没有了立足之地。
我所有的项目被审查，我的团队被拆分，我的安全许可被降级。他们用一种非常文明的方式，将我彻底边缘化了。
这就是我必须回来的原因。
但我回来，不代表说，我就可以无视NIL这条技术路线存在的问题，我就可以心安理得地躺在NIL这条技术路线上吃着数不胜数的红利，看着我们在这条路线上投入大量资源。
EUV是对我们关上了大门，，我们看得见，摸得着，所有人都知道要去造我们自己的光刻机。
但NIL不一样！
NIL是一个软陷阱！
它不会立刻杀死你，但会慢慢地抽干我们的血！
它会让我们国内投入巨资的、刚刚有些起色的自主光刻机项目，瞬间失去内部的支持和信心。
所有人都会问：我们为什么还要花几千亿，熬上十年去搞自主研发？买佳能的不是又便宜又好吗？
一旦我们信了，一旦我们把宝押在NIL上，我们就等于放弃了自己的努力，
我不想我们的国家，我们无数同行的心血，再踩进我亲身经历过的那个陷阱里。
我们可以买一两台回来研究、拆解、分析，把它当成一个值得警惕的对手来学习。
但我们绝不能把国家的半导体命运，寄托在别人的善意和一条看似美好的捷径上。