京城西郊。
计算机发展工业区，第一芯片厂。
无尘车间内摆放着一个庞然大物，长有近五米，宽三米，高四米，重达十五吨。
这就是杨学斌举国之力制造出来的DUV光刻机，可以生产150纳米的芯片，这种技术水平相当于现实世界的二十世纪末的水平。
不过这并不是它的潜力。
通过ArF浸没式，经过多重曝光后，甚至可以制造出七纳米的芯片。
“启动！”
随着杨学斌一声令下，DUV光刻机启动，并开始试生产。
为了这台光刻机，杨学斌付诸了无数心血，光是调试他就花了三个月的时间。
今天终于到了开花结果的时候了。
经过处理的八英寸硅片被送入光刻机内进行光刻，随后便是显影、刻蚀和去胶等步骤，然后不断重复这一过程80次，最终在硅片上构建3D晶体管结构。
芯片生产是个漫长的过程，从投料到切割封装，以及经过最终测试，大概需要十周，也就是两个月的时间。
杨学斌自然不可能守在这里，他还要加紧督促软件组完成操作系统的编写，像其他软件基本上都已经完成了。
1969年5月25日。
150纳米的芯片经过了最终测试，只不过良品率有些低，还不到百分之五十。
不过相对于初生产，这已经很不错了。
随着技术的不断升级，接下来的良品率自然会慢慢提升。
DUV光刻机投产成功，杨学斌并没有第一时间上报，而是加紧其他设备的最终研发，像显卡、声卡、路由器等都需要用到芯片。
芯片，是整个弯道工程的最后一块拼图。
……
时间飞逝，转眼间又是三个月。
计算机发展工业区。
大会议室。
此时，数百技术人员齐聚，看着杨学斌熟练的组装出一台台式电脑。
随着杨学斌按下主机开关，液晶显示器亮起，一行行代码快速闪过，系统程序进行自检后，很快就进入了视窗桌面。
纯色桌面上有十几个图标，都是各种软件工具。